玻璃基板量产难题如何破局?巽霖科技PVD技术获千万融资
作者: 发布时间:2026-06-28 13:58:13 浏览量:
天津巽霖科技有限公司(以下简称巽霖科技)近日宣布完成数千万元pre-A轮融资,本轮融资由中关村发展集团启航投资领投,北岸产投跟投,资金将主要用于技术研发、市场拓展以及产业链建设升级。 巽霖科技成立于2023年9月,是一家专注于陶瓷和玻璃电子基板表面金属化的先进制造业企业,致力于通过自有的PVD(物理气相沉积)技术,开拓覆铜的全新技术路线,解决玻璃基板和陶瓷基板在半导体先进制程、高清显示模组和功率器件等应用场景中的核心技术与成本问题。 目前,巽霖科技在天津和青岛均设有生产线,两地均获批电镀和蚀刻牌照,已建成20万平方米的连续批量基板生产线。其玻璃基板、陶瓷基板等核心产品已完成部分目标客户的工艺验证,并进入投产和批量化订单阶段。 PVD覆铜技术,解决结合强度与铜厚难点 曾经,玻璃基板作为一种新材料,市场解释成本颇高。2023年9月,英特尔率先宣布推出用于下一代先进封装的玻璃基板,并计划于2026年至2030年间实现量产,引起了业界的广泛关注。随后,三星、AMD等巨头悉数入局,在摩尔定律放缓的背景下,玻璃基板成为“突破极限”的新希望,进入大众视野。 玻璃基板由于其平整度高、厚度低、尺寸大、机械性能可调、导热性能好以及材料成本低的特性,成为极具潜力的载板材料。当下,玻璃基板的量产应用还面临诸多挑战,表面覆铜技术就是其中之一。 玻璃是非导电材料,覆铜能赋予玻璃基板导电性,是推进其在电子封装等领域应用的关键步骤。然而,玻璃表面平滑、黏附性较差,玻璃衬底与金属层之间结合强度差,容易导致金属层卷曲甚至脱落。尤其是钢化或超薄玻璃,其加工耐温性较低,为保证良品率与工序协调性,一般只能承受 400 ℃以下的加工温度,在此范围内解决结合强度问题尤为关键。 巽霖科技CEO甄真介绍,传统的纳米胶粘贴铜箔或玻璃毛化后PI 膜等胶粘工艺都会引入新的界面,从而损失玻璃在芯片应用中的特性,比如导热性和精细化线路的制作能力。因此,需要直接实现玻璃表面与金属元素互扩散,从化学角度形成高强度的结合。 PVD技术路线,是在真空环境下,将材料蒸发或溅射,使其在基板表面沉积形成薄膜。巽霖科技采用离子化PVD技术,通过表面轰击、离子注入、离子刻蚀、多层复合结构等方式实现金属元素扩散,能在较低温度下完成大面积玻璃基板覆铜,实现了传统溅射钛铜种子层几倍的结合强度,为后续工序提供了必要的工艺裕度。 此外,该项PVD技术与传统种子层加电镀增厚方式不同,解决了玻璃基板表面覆铜的另一大难题——高厚度与低翘曲。芯片封装、显示TFT面板等领域使用的玻璃基板,通常在亚微米级别或百纳米级别进行封装和涂层,且相关设备以进口为主。巽霖科技采用自研的配方、工艺和设备,制备的玻璃基板涂层厚度可以达到1μm到100μm并且实现了大面积无翘曲,扩展了产品在高清显示和PCB替代领域的应用。 巽霖科技产品样品 “这是我们擅长的领域。在常规涂层领域,我们也是在这个厚度范围内进行涂层。”甄真介绍,创始团队在涂层领域的积累成为其技术突破的基础。 巽霖科技CEO甄真是美国伊利诺伊大学材料学本科、清华大学材料学博士,2019年进入国家级材料研究院所工作,主攻气相沉积涂层工艺研究。“我们的研究实现了金属和陶瓷复合体系涂层在表面近 1400℃到室温下、近千个冷热循环中,保持性能稳定。”甄真表示,“涂层技术是一个平台性技术,关键是解决金属和陶瓷的结合力以及应力匹配的问题,而后才能实现大面积、高铜厚、无翘曲、全过孔的基板覆铜。”受此启发,甄真完成了巽霖科技核心技术的涂层设计、表征以及测试。 巽霖科技董事长甄洪滨毕业于清华大学,上世纪90年代在Electrolux工作时,就意识到涂层技术在机械核心部件中的重要地位:无论是刀具、模具还是零部件,发达国家已经将涂层广泛应用,而当时国内尚属空白。




